在光学与电子行业，高纯度对产品质量和功能至关重要。即使是细微颗粒或原子级残留物也可能导致严重误差、质量损失或产品失效。高纯度清洗技术确保即使是最微小的杂质也能被清除——从而实现工艺可靠性，保障产品品质。我们对高纯度清洗产品的生产过程实施严格监控。
高纯度产品不含硼酸盐、磷酸盐和硅酸盐，生产过程中通过特殊工艺把控质量。
清洗后无氢诱导析出过程中留下的原子级或分子级残留物。
适用于浸没、喷淋应用及压力循环工艺，是模块化精密清洗系统的理想选择。
✔ 清除氧化残留物效果好
✔ 对铝基材清洗效果极佳
✔ 不伤基材表面
✔ 可在单槽内同时清洗钢材、轻金属（如铝）和有色金属（如黄铜）等
✔ 不适用于压力循环工艺
✔ 有效清洗铜、铜合金及化学镀镍等敏感材料
✔ 有效清除有机与无机污垢，部分特殊材料也适用
✔ 有效清除腐蚀及氧化残留物
